Последовательный волнодисперсионный рентгенофлуоресцентный спектрометр XRF-1800

- Анализ элементов от бериллия (4Be) до урана (92U)

- Уровень измеряемых концентраций от ppm до 100%

- Стабильность и воспроизводимость результатов в течение длительного периода

- Рентгеновская трубка мощностью 4кВт позволяет сократить время измерения, повысить  производительность и определять легкие элементы с  высокой

чувствительностью

- Анализ монолитных проб, порошков, жидкостей, фильтров

- Верхнее расположение рентгеновской трубки позволяет избежать загрязнения при  просыпании или прорыве пробы

- Локальный анализ в любой точке образца диаметром 500 мкм

- Картирование поверхности образца с минимальным шагом 250 мкм

- CCD камера для выбора области локального анализа

- Определение толщины и состава пленок, до 10 слоев

- Поиск соответствия результатов измерения неизвестных проб по базе Пользователя

 

Области применения:

- Горнодобывающая промышленность и черная металлургия

- Цветная металлургия

- Электроника и магнитные материалы

- Химическая промышленность

- Нефтяная и угольная промышленность

- Керамическая промышленность

- Сельское хозяйство и пищевая промышленность

- Загрязнение окружающей среды

- Сельская и пищевая промышленность

- Бумага и целлюлоза

 

Дополнительные периферийные устройства:

- Система продувки гелием для анализа жидких проб

- CCD камера для выбора области локального анализа

- Циркуляционная система охлаждения рентгеновской трубки RKE1500A-V-SP: Orion (Япония)

- Автоматическая турель на 40 образцов ASF-40

  • Характеристики

Основная спецификация

 

Диапазон определяемых элементов

От Be до U, базовая комплектация от O до U

Рентгеновский генератор

- Трубка - Rh  - анод с тонким торцевым окном, мощность 4 кВт

- Параметры - 60 кВ, 150 мА

Система охлаждения

Двойной контур, внутренний замкнутый для охлаждения анода, внешний открытый/замкнутый. Рециркулятор воды (опция)

Спектрометр

 

Облучение образца

Сверху; образец вращается со скоростью 60 об/мин

Система ввода образца

Маятникового типа, без динамических нагрузок

Автосамплер

8 позиций, 40-позиционный (опция)

Держатели образцов

7 для массивных образцов, один для локального анализа

Размер образца

51 мм в диаметре, высота 38 мм

Первичные фильтры

Автоматическая смена Al / Ti / Ni / Zr /без фильтра

Апертуры

Автоматическая смена 5 типов: 500 мкм, 3, 10, 20, 30 мм

Локальный анализ

0,5 мм диаметр, цифровая камера для контроля области анализа (опция)

Первичные щели

Автоматическая смена 3-х типов: стандартная, с высоким разрешением, с высокой чувствительностью

Аттенюатор

Автоматическое включение/выключение

Сменщик кристаллов

Автоматическая смена 10 кристаллов в двух направлениях

Кристаллы-анализаторы

LiF (200), PET, Ge, TAP стандартные; LiF (220), SX-52, SX-1, SX-14, SX-76, SX-88, SX-98, SX-410 опции

Детекторы

Сцинтилляционный счётчик (SC) для тяжёлых элементов

Проточный пропорциональный счётчик (FPC) для лёгких элементов

Система подачи газа для FPC

Электронный контроль плотности; потребление газа 5 см3/мин

Контроль степени разрежения

Стабилизатор вакуума

Атмосфера анализа

Воздух/вакуумирование; предварительное вакуумирование с двумя скоростями; система напуска гелия/азота (опция)

Программное обеспечение

 

Локальный анализ

Количественный анализ в точке, картирование с шагом 250 мкм, распределение по интенсивностям/концентрациям

Количественный анализ

- Метод фундаментальных параметров (ФП)

- Метод фоновых ФП для расчета толщины и состава пленок

- Метод калибровочных кривых

- Матричная коррекция (5 методов)

- Расчет коэффициентов матричной коррекции методом SFP

- Измерение интенсивностей пиков и интегральных интенсивностей

- Программа сопоставления состава по библиотекам пользователя

Качественный анализ

- Измерение линий высших порядков

- Автоматический контроль чувствительности

- Сглаживание, коррекция фона, поиск пиков и их автоматическая идентификация, разделение пиков, расчет фона по 16 точкам

- Редактирование пиков (добавление/вычитание, маркировка, листинг вероятных элементов для неизвестных пиков), наложение до 8 спектров, изменение шкалы измерений (угол 2Θ, длина волны, энергия, линейный и логарифмический масштабы интенсивности излучения)

Обслуживание

Непрерывный мониторинг системы

Заявка на обратный звонок
При заполнении формы Вы даете согласие на обработку персональных данных.